半導体用レジスト「SML Resist / PMMA Resist」

ユニポスWEBサイトに、半導体加工における電子線リソグラフィの中で使用されるレジスト(感光材)である SML Resist / PMMA Resist のページを追加しました。

20年以上にわたり電子線リソグラフィ および ナノ加工用材料を専門的に開発しているイギリスのEM Resist 社の、以下 SML Resist / PMMA Resist 2種類のレジストを取り扱っています。


SML Resist

低加速電圧でも近接効果補正を使用せずに高解像度・高アスペクト比のパターンに同時にパターニングが可能な、特別に設計された新しいレジスト。
レジスト膜厚を 50nm/100nm/300nm/600nm/1000nm/2000nm からお選びいただけます。

PMMA Resist

業界標準のPMMA (ポリメチルメタクリレート)レジスト。
Molecular Weight(分子量)を 950,000/495,000/350,000/120,000/35,000 からお選びいただけます。
Dilutions (希釈度)は A2~A12でご指定いただけます。